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一种基于双材料效应的微机械红外探测器阵列的制作方法[发明专利]

来源:华拓科技网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:一种基于双材料效应的微机械红外探测器阵列的制

作方法

专利类型:发明专利

发明人:冯飞,熊斌,杨广立,王跃林申请号:CN200510112299.0申请日:20051229公开号:CN1819291A公开日:20060816

摘要:本发明涉及一种新的基于双材料效应的微机械红外探测器阵列的制作方法,其特征在于采用硅作为牺牲层,采用SiO、SiN、SiC、Au、Al及Cr等XeF气体几乎不腐蚀的材料来制作像素的双材料支撑梁和红外敏感部分,采用SiO、SiN、SiC、Au、Al及Cr等XeF气体几乎不腐蚀的材料制作锚或对锚进行保护,最后采用XeF气体腐蚀硅牺牲层释放像素。本发明具有以下积极效果和优点:一方面采用干法释放,避免湿法释放过程对像素结构的破坏;另一方面,降低了制作成本且与IC工艺相兼容。

申请人:中国科学院上海微系统与信息技术研究所

地址:200050 上海宁区长宁路865号

国籍:CN

代理机构:上海智信专利代理有限公司

代理人:潘振甦

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