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专利名称：滚柱超越离合器专利类型：实用新型专利发明人：石光林,陆维钊,陆业钊申请号：CN201120060054.9申请日：20110309公开号：CN201934540U公开日：20110817
摘要：一种滚柱超越离合器。其特点是滚柱是中空的空心滚柱或者两端向内凹的滚柱。其优点是（1）滚柱采用空心或两端向内凹结构，以使滚柱有一定柔性，使接触副中的零件接触应力均匀分布，有效降低其接触应力边缘效应。（2）滚柱采用空心或两端向内凹结构，改善了由于制造和安装过程中，存在的相关同轴度和垂直度误差所导致滚柱的偏向载荷，避免了滚柱和保持架产生早期磨损。（3）滚柱采用空心或两端向内凹结构，高速超越回转情况下，克服了在高速超越运转时滚柱磨损较快缺点。（4）滚柱采用空心或两端向内凹结构，当滚柱受重载变形时可增大滚柱与滚道之间的接触面积，从而提高离合器的接触疲劳承载能力，有利于提高超越离合器的工作可靠性。
申请人：石光林,陆维钊,陆业钊
地址：545006 广西壮族自治区柳州市东环路268号广西工学院机械系
国籍：CN
代理机构：柳州市集智专利商标事务所
代理人：陈希
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