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专利名称：一种高匀场气室加热结构专利类型：发明专利
发明人：全伟,牛雪迪,刘峰,范文峰申请号：CN2020106849.8申请日：20200716公开号：CN111854743A公开日：20201030
摘要：一种高匀场气室加热结构，用于原子自旋惯性测量系统，包括支撑基座、保温装置和加热装置，保温装置包覆所述加热装置后固定于支撑基座内部；加热装置内导热装置和包裹内导热装置侧面整体的高匀场加热膜；内导热装置包括高导热率材料制成的相互对接的气室座和气室固定件，碱金属气室通过气室座和气室固定件的相互对压进行夹持包覆，增大了碱金属气室的导热面积，避免了碱金属气室局部温度过高。高匀场加热膜直接包覆在高导热率材料制成的气室座和气室固定件的侧面，且高匀场加热膜为正常工作的温度波动幅度保持在5mK‑8mK的高匀场加热膜，使得原子自旋惯性测量系统正常工作时碱金属气室内部温度波动维持在0.5K‑1.5K之间。
申请人：北京航空航天大学
地址：100191 北京市海淀区学院路37号
国籍：CN
代理机构：北京海虹嘉诚知识产权代理有限公司
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